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Elaboration des revêtements et couches minces
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Edité par GROUPE FRANCAIS DE GENIE DES PROCEDES - 1992
Date de publication : 02/01/1992
Mention de thèse : 1e Journée d'étude GPelmat, Groupe Français de Génie des Procédés, Toulouse, France, 5 novembre 1992
Description : 98 pages
Langue du texte : français
Cote : 660.207 RPG (T.23) (Réserve)
Producteur fiche : 5
Mots-clés : COUCHE MINCE ; CRISTAL ; CROISSANCE ; PLASMA ; REVETEMENT ; SILICIUM ; TECHNIQUE INDUSTRIELLE ; TUNGSTENE
Sommaire : 1 Genie des procedes et elaboration des couches minces ; 2 Materiaux et genie des procedes: une rencontre indispensable ; 3 Apports et limites de la thermodynamique dans l'elaboration des couches minces par CVD ; 4 Transport de matiere et elaboration des couches de tungstene et de carbure de chrome ; 5 Importance de la chimie dans l'obtention des couches de silicium ; 6 Procedes activés par plasma: application au diamant ; 7 Croissance cristalline des couches minces
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